K&F Concept Nano-X MRC UV фильтр - 49 мм

K&F Concept Nano-X MRC UV Filter

Ультрафиолетовый фильтр K&F Concept Nano-X MRC необходим фотографам, которые стремятся защитить свои объективы и повысить качество изображения. Предназначенный для резьбы 49 мм, он защищает от пыли, грязи и отпечатков пальцев, одновременно снижая вредное воздействие ультрафиолетового излучения.

Основные характеристики

• Защита объектива Защищает от пыли, грязи и царапин.
• Снижение УФ-излучения Уменьшает дымку и улучшает четкость фотографий.
• Оптическое стекло премиум-класса Изготовлено из оптического стекла AGC HD, обеспечивающего резкость и точность цветопередачи.
• Покрытие NANOTEC 28-слойное покрытие для уменьшения бликов и легкой очистки.
• Ультратонкая оправа Всего 3,3 мм предотвращают виньетирование при использовании широкоугольных объективов.
• Защитный чехол в комплекте для безопасного хранения.

Улучшите свою фотографию

Этот УФ-фильтр не только защищает ваш объектив, но и улучшает качество фотографий, уменьшая атмосферную дымку, повышая контрастность и четкость. Передовое оптическое стекло обеспечивает долговечность и отличную светопередачу, что делает его надежным выбором для любого фотографа.

Технические характеристики

• Модель K&F Concept Nano-X MRC UV filter - 49 мм
• Материал Авиационный алюминиевый сплав
• Покрытие NANOTEC (28 слоев)
• Пропускание 99,6%
• Толщина 3,3 мм

Обновите свою фототехнику ультрафиолетовым фильтром K&F Concept Nano-X MRC для превосходной защиты объектива и качества изображения.