K&F Concept Nano-C HMC UV filter - 52 mm

K&F Concept Nano-C HMC UV Filter - 52 mm

The K&F Concept Nano-C HMC UV filter ir neaizstājams fotogrāfiem, piedāvājot aizsardzību un uzlabojot fotoattēlu kvalitāti. Filtrs ir aprīkots ar cieto daudzslāņu pārklājumu (HMC) un Japāņu optisko stiklu, lai samazinātu atspulgu un spīdumu, uzlabojot kontrastu un skaidrību. Ultra plānais 3,3 mm rāmis novērš vinjetēšanos, un tas tiek piegādāts ar aizsargapvalku transportēšanai.

Galvenās īpašības

• Saderīgs ar 52 mm vītni
• Aizsargā objektīvu no putekļiem, netīrumiem un pirkstspēriena nospiedumiem
• Samazina UV gaismas efektus, lai uzlabotu fotoattēlu kvalitāti
• Ideāli piemērots ainavu fotogrāfijai
• Izgatavots no augstas kvalitātes Japāņu optiskā stikla
• 18 slāņu HMC pārklājums
• Ultra plāns rāmis, lai novērstu vinjetēšanos
• Iekļauts aizsargapvalks

Objektīva aizsardzība

Filtrs aizsargā objektīvu no pirkstspēriena nospiedumiem, putekļiem, skrāpējumiem un mehāniskiem bojājumiem, uzlabojot tā ilgmūžību un veiktspēju.

UV starojuma aizsardzība

Kalpo kā barjera pret UV starojumu, uzlabojot attēla skaidrību, samazinot miglu un nevēlamus gaismas efektus.

HMC pārklājums

Daudzslāņu pārklājums samazina atspulgas, spīdumu un atmosfēriskās miglas efektus, uzlabojot kontrastu un skaidrību attēlos.

Japānas kvalitāte

Izgatavots no Japāņu optiskā stikla, nodrošinot izcilu gaismas pārsūtīšanu un izturību, garantējot augstas kvalitātes fotoattēlus.

Ultra plāns profils

3,3 mm plānais rāmis novērš vinjetēšanos, saglabājot skaidrību attēlos ar garajiem telefoto objektīviem.

Saderība

Saderīgs ar objektīviem ar 52 mm filtra uzstādīšanas vītni.

Specifikācijas

• Filtra tips UV
• Pārklājums Cieto daudzslāņu (18 slāņi)
• Biezums 3,3 mm
• Diametrs 52 mm
• Komplektācija Filtrs, Aizsargapvalks